清洗机-巴克超声波(商家)-超声波清洗机

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    2023-8-4

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旋转喷淋清洗机清洗机

该设备为单工位旋转结构,上料完成后进行喷淋清洗(漂洗)、切水等,可对工件外表面进行大面喷淋清洗,目前已广泛应用于汽车零部件行业。该机型具备占地面积小、操作方便、维护便捷等特点。


一、 清洗工艺:

上料 ***喷淋清洗(大面)***喷淋漂洗(大面)***风机切水(大面)***下料

1、密闭盖:

配置密闭盖防止液体外溅;

密闭盖采用簧或者气缸作为动力,操作便捷;

2、喷淋清洗:

喷淋管为固定结构,工件底部、侧面及顶部三面布置喷淋管;

清洗完成后可转换压缩空气吹气,将管路及产品上的清洗液吹下来,减少窜液(含漂洗功能时);





3、喷淋漂洗(可选):

与喷淋清洗共用一套管路;

4、风机切水工位:

采用风机切水,超声波清洗机价格,工件底部、侧部及顶部三侧布置风刀,工件旋转时对产品进行风切;

也可采用压缩空气切水;

5、热风干燥(不建议配,烘干时间短时效果差):

采用风机+加热包结构,风机将热风吹至工件表面,对产品进行干燥;

烘干温度40-100℃,铝合金产品一般不超过60℃;

6、工装篮及旋转机构:

采用篮筐,将产品放置在篮筐内清洗;

旋转机构采用减速电机+旋转盘结构,清洗时工装篮旋转带动工件旋转;

7、除雾系统:

采用冷凝回收系统将设备内部的雾气进行收集处理,后回收至储液槽,可循环使用;清洗工位及切水工位设置出风口,对雾气进行收集;

要求较低可配置吸雾风机,经甲方管路排至室外;

8、循环过滤系统:

由储液槽、喷淋泵、过滤器、管路等构成。


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此方法适用于除去氧化膜或有机物。因为化学物质在硅片表面停留的时间比较短,对反应需要一定时间的清洗效果不好。在喷洗过程中所使用的化学试剂很少,对控制成本及环境保护有利。

随着集成电路制程工艺节点越来越---,对实际制造的几个环节也提出了新要求,清洗环节的重要性日益---。

清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小,半导体对杂质含量越来越敏感,而半导体制造中不可避免会引入一些颗粒、有机物、金属和氧化物等污染物。为了减少杂质对芯片良率的影响,实际生产中不仅仅需要提高单次的清洗效率,还需要在几乎所有制程前后都频繁的进行清洗,清洗步骤约占整体步骤的33%。







二、旋转式雾化打印机喷头。将液体供向高速运转件,清洗机,液体向转动件附近或孔内甩出来,它便是依靠离心力和气动力而雾化液体的旋转式雾化。当液体总流量不大,离心力超过液体界面张力时,---边沿抛出去的小量液滴,超声波清洗机,这时立即瓦解成液滴。当总流量和转速比,液体被弄成总数较多的絮状水射流,浆状流极不稳定,液体离去盘缘一定间距后因为与周边的气体产生磨擦功效而分离出来成小液滴。这就是絮状隔断成液滴。当转速比和总流量再增加,液丝连接成塑料薄膜,伴随着液膜向外拓展成更薄的液膜,并以---的速度周边的气体产生磨擦而分离出来雾化,由薄膜状瓦解成液滴


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