此方法适用于除去氧化膜或有机物。因为化学物质在硅片表面停留的时间比较短，对反应需要一定时间的清洗效果不好。在喷洗过程中所使用的化学试剂很少，对控制成本及环境保护有利。
随着集成电路制程工艺节点越来越---，对实际制造的几个环节也提出了新要求，清洗环节的重要性日益---。
清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小，半导体对杂质含量越来越敏感，而半导体制造中不可避免会引入一些颗粒、有机物、金属和氧化物等污染物。为了减少杂质对芯片良率的影响，实际生产中不仅仅需要提高单次的清洗效率，还需要在几乎所有制程前后都频繁的进行清洗，清洗机，清洗步骤约占整体步骤的33%。
检查所有化学品、清洗剂浓度是否正确：---清洗剂及其他化学品容器内的余量充足，---输送分配管道正确连接到对应的容器。 ? 观察清洗机总体情况：舱体内表面应清洁，无污点、水垢及其它污染物堆积。这些都可能影响清洗机的性能和清洗效果。污点和水垢可能表明有水质、化学品浓度过---问题。---任何适用的垫圈、密封圈、记录器都处于正常状态。
公司于2008年通过了iso9001管理体系和欧盟ce---，先后与国外80多个合作，喷淋清洗机，并与航发、大众、华为、小松机械、伊顿、沃德、长城、重汽、美利信、费斯托、中车、中航工业等企业达成长期战略合作关系。
旋转喷淋清洗机简介
旋转喷淋清洗机
该设备适用于各类工件的外表面清洗，多槽超声波清洗机，如波峰焊治具的清洗，回流焊冷凝器的清洗，各类五金零件加工后的清洗，设备拆卸后的部件清洗，汽车配件，各种壳体、箱体等。该设备在运行中，工件在清洗篮内随清洗篮旋转，同时喷淋系统高压喷射加温的清洗液，可以使工件得到清洗。
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